応用分野 / 半導体
半導体
ウェーハ搬送、レチクルステージ、検査光学系、リソグラフィ位置決め。サブnm繰り返し精度、真空適合性、ゼロ磁界放射が必須条件となる領域です。
01準備中
Sub-nm wafer stage positioning
Motor selection for 300mm platforms
02準備中
Reticle handling in EUV lithography
Why every micron of vibration costs yield
03準備中
Vacuum-compatible motor selection for process chambers
Outgassing, lubricants, and SEMI standard compliance
04準備中
Autofocus in optical inspection
Speed-resolution tradeoffs in piezo-driven lens stages